Les opportunités de partenariat entre l'Algérie et les Etats-Unis ont été évoqués par le ministre de l'Industrie et des mines, M. Abdessalem Bouchouareb, et l'ambassadrice des Etats-Unis, Mme Joan A. Polaschik, lors d'une audience accordée, mardi à Alger, par le ministre à la diplomate américaine.
Les opportunités de partenariat entre l'Algérie et les Etats-Unis étaient au centre des discussions entre les deux responsables au moment où "les compagnies américaines continuent à afficher un intérêt grandissant pour l'Algérie au regard du potentiel existant", a indiqué un communiqué du ministère.
A cet effet, le ministre a réaffirmé la volonté des autorités algériennes d'approfondir davantage ce partenariat, notamment avec la nouvelle dynamique que connaît le secteur (réorganisation du secteur public marchand, amélioration du code des investissements et loi d'orientation des PME) qui tend à améliorer le climat des affaires et attirer un nombre plus important d'opérateurs étrangers notamment américains à investir dans le marché algérien.
De son côté, Mme Polaschik a expliqué que son pays "suit avec intérêt ces mutations et changements positifs que connaît le secteur économique en Algérie, notamment le secteur industriel", ajoutant que les opérateurs économiques américains "veulent saisir toutes les opportunités que présente ce marché émergent dans ce domaine".
Pour la diplomate américaine, le projet de General Electric (GE) en Algérie "est un exemple de réussite des investissements américains dans ce pays". Les deux parties ont, en outre, évoqué la visite prochaine de M. Bouchouareb aux Etats-Unis pour prendre part au forum d'affaires algéro-américain prévu fin octobre à Chicago et à Washington DC, et qui constitue "une occasion propice pour présenter les opportunités d'investissement en Algérie".
Par ailleurs, les deux responsable ont émis le souhait de voir davantage de partenariat dans le domaine minier lequel est considéré comme un créneau "prometteur" pour renforcer la coopération entre l'Algérie et les Etats-Unis, a-t-on ajouté de même source.
